控制面板

該設(shè)備采用全新HMI-PLC（人機界面）技術(shù)，通過PLC編程處理可以對設(shè)備操作和運行參數(shù)進行實時監(jiān)控并存儲，方便對每批次產(chǎn)品生產(chǎn)參數(shù)的追溯。并且可對維護進行智能化提醒?？刂葡到y(tǒng)可以接入網(wǎng)絡(luò)，設(shè)備強大的網(wǎng)絡(luò)能力意味著能在世界的任意一個角落對設(shè)備操作及運行參數(shù)進行監(jiān)控。

研磨過程

該設(shè)備所具有的獨特的對沖式雙螺旋介質(zhì)控制技術(shù)可在亞微米至納米級分散過程中獲得極窄的粒徑分布。本設(shè)備提出了一種創(chuàng)新的分散研磨新理念：把**化的能量傳遞到低填充率和集中分布的研磨介質(zhì)中去。這種獨特的研磨系統(tǒng)所能傳遞的剪切力、摩擦力和珠子間的碰撞壓力遠遠勝過傳統(tǒng)的砂磨機。

研磨珠控制

高線速度的研磨珠在很短的行程內(nèi)運動且持續(xù)循環(huán)，這就在研磨部件的內(nèi)部及周圍形成了一種對沖式雙螺旋運動。這種作用可精確地引導研磨珠在研磨腔體內(nèi)的運動。與此同時研磨珠物料的初步分離也在這一階段同時產(chǎn)生。通過特殊設(shè)計，使離心力分離作用盡可能增大，研磨介質(zhì)和產(chǎn)品也因此而分離。

應(yīng)用范圍

廣泛應(yīng)用于各個行業(yè)，包括：油漆、油墨、 農(nóng)化產(chǎn)品、醫(yī)藥、食品、顏料、樹脂、磁性涂料、陶瓷、礦物、一般化工產(chǎn)品、化妝品。